根据数据公司(IDC)的监测数据显示，近几年大数据储量的增速每年都保持在40%左右，2016年甚至达到了87.21%的增长率;2018年大数据储量达到33ZB。结合2019年大数据市场发展情况看，2019年大数据储量约为42ZB。
其实我国光刻机设备的研制起步并不晚，约在1965年前后。1977年，我国最早的光刻机JGK-3型半自动光刻机诞生；1985年，中电科45所研制出中国首台g线1.5um分步光刻机，而美国是在1978年研制出自动化步进式光刻机(Stepper)的，按照这个时间节点算，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。重点是，在那时，国产光刻机水平均不低，最保守估计跟当时先进的Canon相比，差距最多也就不到4年。
从市场规模来看，2014年以来，大数据硬件、软件和服务整体市场规模稳步提升，2018年大数据硬件、软件和服务整体市场规模达到420亿美元，同比增长20%。根据测算，2019年大数据整体市场规模为540亿美元，同比增长28%。
而国产光刻机龙头上海微电子SMEE，成立于2002年，属后起之秀，但技术积累薄弱，目前最先进的光刻设备也只能提供90mn的工艺技术，这也是生产国产光刻机的最高技术水平，和ASML公司差不多有10年的差距。单从指标上看，SMEE光刻机基本和ASML的低端产品属于同一档次，勉强挤进三线供应商，但在三大厂商的挤压下，SMEE在全球光刻机市场份额上几乎空白。
随着工业4.0概念的引入，工业产业进入了新一轮的性革命，新型工业体系核心的就是互联网、大数据与工业的融合发展，工业大数据是工业4.0核心的支撑之一，工业大数据的应用将带来工业生产与管理环节的极大的升级和优化，其价值已经得到了的认可。
因此，当时国产光刻机与国外差距并不算太大。但80年代末，中国开始奉行“造不如买，买不如租”的政策，希望通过引进，借鉴，学习等手段，尽快缩小中国与发达国家的巨大差距。产业也抛却“独立自主、自力更生”的指导方针，盲目对外开放。导致了技术研发单打独斗，科研成果难以转化成产品；硬件企业沦为组装厂，为外资企业提供廉价劳动力；盲目崇拜国外技术，软件工程师转变为廉价的码农。
直到2000年，中国半导体产业才奋起直追，中国也开始在核心的光刻机领域追赶，但国产光刻机与国外的距离已然变成了鸿沟。在这十多年间里，国产光刻机的研制几乎处于停滞的状态。这也紧接着导致后面我们错过了最新两代光刻机技术研发的时时机，进一步拉大与先进国家的距离。
一个是20世纪九十年代，光刻光源被卡在193纳米无法进步长达20年，这个难点直到2002年被台积电的林本坚博士所攻破，他提出了浸入式193nm的方案。当时，ASML立马抓住机会，在一年的时间内开发出样机并在之后推出浸入式光刻机XT:1700i，大受各大半导体厂商青睐，更是借此击败当时的光刻机老大尼康。而中国此时才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。
直到2000年，中国半导体产业才奋起直追，中国也开始在核心的光刻机领域追赶，但国产光刻机与国外的距离已然变成了鸿沟。在这十多年间里，国产光刻机的研制几乎处于停滞的状态。这也紧接着导致后面我们错过了最新两代光刻机技术研发的时时机，进一步拉大与先进国家的距离。
一个是20世纪九十年代，光刻光源被卡在193纳米无法进步长达20年，这个难点直到2002年被台积电的林本坚博士所攻破，他提出了浸入式193nm的方案。当时，ASML立马抓住机会，在一年的时间内开发出样机并在之后推出浸入式光刻机XT:1700i，大受各大半导体厂商青睐，更是借此击败当时的光刻机老大尼康。而中国此时才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。
近年来，随着工业化改革的发展，工业大数据的规模不断增加。至2019年工业大数据的市场规模为313亿美元，当年大数据市场规模为540亿元，工业大数据占大数据总规模超过50%，可见工业大数据已经成为大数据行业发展的主要的领域。
国产光刻机处于低端水平严重阻碍着国产半导体发展，因为在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻技术，它占芯片制造成本的35%以上。因此，发展国产光刻机对于我国半导体发展意义十分重大。
未来，随着以德国为代表的工业4.0的深化发展及各国制造业的智能化转型的加快，预计2020年工业大数据的市场规模为363亿美元，占大数据总规模的比重约为60%。
但回顾国产光刻机的发展史，乃至观察全球光刻机的进展，发现留给国产光刻机的机会不多了。 首先，技术积累薄弱，并错过了研发光刻机新技术的关键时刻。
在各国对“工业4.0”战略布局和大数据相关发展政策的支持下，大数据技术将会与智能制造深入结合，而工业网络、数据采集、集成、计算和分析技术在工业领域的应用，将促使工业数据发挥巨大价值，工业大数据市场将会迎来高速增长。
