国家重点新产品计划项目是一项旨在促进新产品开发，推动科技成果产业化的政策引导性计划，围绕“十五”国家科技计划体系的总体部署和要求，《2005年国家重点新产品计划》进一步贯彻“创新、产业化”方针，继续采取国家政策引导和财政补助措施，引导和支持企事业单位和科研单位的新产品开发、度制及产业化工作。重点支持创新性强、技术含量高、拥有自主知识产权，对行业共性技术有较大带动作用，积极研究、制定或采用国际标准、国内外先进技术标准的新产品开发和试制工作。  

GE Fanuc的各位专家在会议上介绍了如何运用先进创新技术和技术专业技能和该领域的经验来保证"交付价值"与"承诺价值"相当，甚至超过后者，同时如何利用现有系统，以保护客户的投资。在此会上，GE Fanuc还介绍了诸多创新技术，这些技术能帮助您优化资源、保护您的现有投资、满足规范标准、减少总体工程耗时和制造过程耗时、扩大投资回报率、设计高可用性系统。此外，GE Fanuc还同与会者分享了其创新的自动化应用实例和解决方案，这些领域涵盖冶金、交通运输、汽车、石油和天然气、电力和能源、水和废水处理等目标市场。

GE Fanuc推介的最新创新产品是路演上的一大亮点 —— 包括PACSystems 的最新功能、Proficy软件解决方案家族和专为工业和其它应用领域设计的全新嵌入式系统。

"为了更有创造性、更持久、更灵活地解决客户所面临的最艰巨的挑战，我们对GE Fanuc的产品构成进行了创造性的转型。"GE Fanuc大中国区总裁兼首席执行官柯裴德先生说道，"GE Fanuc将业界领先的三个产品平台—PACSystems可编程自动控制器、 Proficy智能生产软件解决方案、和嵌入式系统带到中国，希望能在产品、过程与业务扩展三个层面上真正帮助我们的客户提高绩效。"

我国传感器和仪器仪表的技术和产品，经过发展，有了较大的提高。全国已经有1600多家企事业单位从事传感器和仪表元器件的研制、开发、生产。但与国外相比，我国传感器和仪表元器件的产品品种和质量水平，尚不能满足国内市场的需求，总体水平还处于国外上世纪90年代初期的水平。存在的主要问题有：
    （1）科技创新差，核心制造技术严重滞后于国外，拥有自主知识产权的产品少，品种不全，产品技术水平与国外相差15年左右。
    （2）投资强度偏低，科研设备和生产工艺装备落后，成果水平低，产品质量差。
    （3）科技与生产脱节，影响科研成果的转化，综合实力较低，产业发展后劲不足。

以工业控制、汽车、通讯、环保为重点服务领域，以传感器、弹性元件、光学元件、专用电路为重点对象，发展具有自主知识产权的原创性技术和产品；

以MEMS工艺为基础，以集成化、智能化和网络化技术为依托，加强制造工艺和新型传感器和仪表元器件的开发，使主导产品达到和接近国外同类产品的先进水平；

以增加品种、提高质量和经济效益为主要目标，加速产业化，使国产传感器和仪表元器件的品种占有率达到70%~80%，高档产品达60%以上。
    （1）MEMS工艺和新一代固态传感器微结构制造工艺：深反应离子刻蚀（DRIE）工艺或IGP工艺；封装工艺：如常温键合倒装焊接、无应力微薄结构封装、多芯片组装工艺；新型传感器：如用微硅电容传感器、微硅质量流量传感器、航空航天用动态传感器、微传感器，汽车专用压力、加速度传感器，环保用微化学传感器等。
    （2）集成工艺和多变量复合传感器微结构集成制造工艺；工业控制用多变量复合传感器，如：压力、静压、温度三变量传感器，气压、风力、温度、湿度四变量传感器，微硅复合应变压力传感器，陈列传感器。
    （3）智能化技术与智能传感器信号有线或无线探测、变换处理、逻辑判断、功能计算、双向通讯、自诊断等智能化技术；智能多变量传感器，智能电量传感器和各种智能传感器、变送器。
    （4）网络化技术和网络化传感器传感器网络化技术；网络化传感器，使传感器具有工业化标准接口和协议功能。

弹性元件开发和完善新型成型工艺：电沉积成型工艺，焊接成型工艺；重点开发航空、航天用的低刚度、大位移、长寿命的微小型精密波纹管，高温高压阀用波纹管；研制波纹管高效成型工艺设备和性能检测仪器。

光学元件开发先进工艺：非球面光学元件设计、制造技术、光学多层测射镀膜技术和新型离子辅助镀膜技术。

开发光纤通讯和数字成像用新型光学元件，如：微型变密度滤光片、超窄带滤光片，微透镜阵列、大面积偏振元件、非球面玻-塑混合透镜。